TSMC сократила пиковое энергопотребление EUV-сканеров почти наполовину и запустила глобальную программу энергосбережения
TSMC объявила о снижении пикового энергопотребления своих EUV-литографических установок на 44% без потери производительности, выхода годной продукции и качества экспозиции. Эффект достигнут благодаря программе динамического управления питанием, которая с сентября 2025 года внедряется на фабриках 15B, 18A и 18B, а к концу года охватит все EUV-инструменты компании по всему миру. Система сразу станет обязательной для … Read more
