Huawei запатентовала метод выпуска 2-нм чипов на DUV-оборудовании без EUV-литографии
Huawei запатентовала технологию производства чипов класса 2 нм с использованием только глубокоультрафиолетовой (DUV) литографии, обходясь без экстремального ультрафиолета (EUV). Если метод удастся реализовать в массовом производстве, компания и её партнёр SMIC смогут приблизиться к уровням техпроцессов TSMC и Samsung, несмотря на санкционные ограничения на поставки EUV-оборудования ASML. Патент был подан ещё в 2022 году и…
