TSMC объявила о снижении пикового энергопотребления своих EUV-литографических установок на 44% без потери производительности, выхода годной продукции и качества экспозиции. Эффект достигнут благодаря программе динамического управления питанием, которая с сентября 2025 года внедряется на фабриках 15B, 18A и 18B, а к концу года охватит все EUV-инструменты компании по всему миру. Система сразу станет обязательной для новых площадок, включая второй этап Fab 21 в Аризоне.
По расчётам компании, внедрение позволит сэкономить 190 млн кВт·ч электроэнергии и предотвратить выброс 101 килотонны CO₂ к 2030 году. В пересчёте на деньги это около 22,4 млн долларов, что, хотя и не кардинально меняет структуру расходов, способствует достижению целей TSMC по устойчивому развитию. Сейчас фабрики тайваньского гиганта потребляют порядка 9% всей электроэнергии Тайваня, а один современный EUV-сканер способен тянуть до 1 МВт — сравнимо с потребностями небольшого квартала.
TSMC подчёркивает, что новое ПО работает в режиме реального времени: когда пластины не готовы к экспонированию, сканер переводится в пониженный режим, а при поступлении задания мгновенно выходит на номинальную мощность. Поскольку логика не завязана на уникальные особенности EUV, компания рассматривает возможность адаптировать алгоритм к DUV-оборудованию и другим энергоёмким модулям производства.
Несмотря на значительную экономию, в 2024 году совокупное потребление TSMC превысило 25,5 млрд кВт·ч, из которых меньше половины пришлось на производственные инструменты, а остальное — на вспомогательную инфраструктуру. Тем не менее снижение пиковой нагрузки упрощает планирование энергетики новых техпроцессов, где доля EUV только растёт, и помогает сохранять лидерство компании в области передовых норм 3 нм и 2 нм.
TSMC остаётся крупнейшим контрактным производителем микросхем с рыночной долей свыше 50%. Среди её клиентов — Apple, AMD, NVIDIA и Qualcomm, поэтому любые улучшения энергоэффективности напрямую отражаются на устойчивости всей мировой полупроводниковой цепочки.